-
Oferta od
osoby prywatnej
-
Stan
używane
-
Rok wydania
1985
-
Okładka
miękka
Książka w języku rosyjskim.
Предисловие к русскому изданию Предисловие
Глава 1. Общие положения
10, II, 15, 13, I, 12 I. 12. Le Is те
1.1. Введение
1.2. Микроэлектронные приборы
1.3. Планарная технология, используемая в микроэлектронике
1.4. Микроструктуры для других применений
Глава 2. Пучки частиц: источники, оптика, взаимодействие с веществом
I MM
2.1. Введение
90
2.2. Источники электронов
92
2.3. Параметры и расчет источников электронов
.995 106
2.4. Источники ионов
132
2.5. Элементы электронно- и ионно-оптических систем
150
2.6. Взаимодействие электронов с веществом
188
2.7. Взаимодействие ионов с веществом
. 211
2.8. Источники фотонов и их взаимодействие с веществом 2.9. Заключение
220
. 227
Глава 3. Тонкие пленки
3
118, 118 50
SI
8
3.1. Введение
228
3.2. Технология осаждения
228
3.3. Зернистость, состав, морфология и структура тонких пленок
. 261
Глава 4. Литографические методы в микроэлектронике
4.1. Введение
269
4.2. Оптическая литография
271
4.3. Физика фотолитографии
281
4.4. Проекционные системы
292
4.5. Голографическая литография
294
4.6. Рентгеновская литография
295
4.7. Использование синхротронного излучения для рентгеновской ли- тографии
309
4.8. Электронно-лучевая литография [37]
313
4.9. Ионно-лучевая литография
Karton 176